龙微科技磁控溅射镀膜机抄板工作顺利结束，此磁控溅射镀膜机体积小，重量轻，价格便宜，使用成本低。该设备标配1只圆形平面靶，另预留1对蒸发电极，能够溅射蒸发两用； 该设备主要用来开发纳米级导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性材料等，基片台加负偏压可实现基片反溅清洗功能。非常适合于大专院校的教学、科研之用。
主要技术指标 真空腔室 φ220mm×H300mm；
真空系统 涡轮分子泵+直联旋片泵,电动真空阀门，“一低一高”数显复合真空计；
真空极限 优于8.0×10-5Pa；
抽速 从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min；
可镀膜尺寸 2英寸1片，散片若干；
基片加热与旋转 衬底加热：室温～400℃，自动测温，PID控温；基片旋转：0-20转/分钟，可调可控；
溅射靶规格 2英寸圆形平面靶1只，另预留1对蒸发电极接口；
膜厚不均匀性 ≤±5%；
控制方式 手动按钮控制；
报警及保护 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；
占地面积 长×宽: 1300×800mm；
如有产品需要抄板、全套克隆、批量生产请与我公司联系。
