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龙微科技磁控溅射镀膜机抄板工作顺利结束

  龙微科技磁控溅射镀膜机抄板工作顺利结束,此磁控溅射镀膜机体积小,重量轻,价格便宜,使用成本低。该设备标配1只圆形平面靶,另预留1对蒸发电极,能够溅射蒸发两用; 该设备主要用来开发纳米级导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性材料等,基片台加负偏压可实现基片反溅清洗功能。非常适合于大专院校的教学、科研之用。
  主要技术指标 真空腔室 φ220mm×H300mm;
  真空系统 涡轮分子泵+直联旋片泵,电动真空阀门,“一低一高”数显复合真空计;
  真空极限 优于8.0×10-5Pa;
  抽速 从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min;
  可镀膜尺寸 2英寸1片,散片若干;
  基片加热与旋转 衬底加热:室温~400℃,自动测温,PID控温;基片旋转:0-20转/分钟,可调可控;
  溅射靶规格 2英寸圆形平面靶1只,另预留1对蒸发电极接口;
  膜厚不均匀性 ≤±5%;
  控制方式 手动按钮控制;
  报警及保护 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;
  占地面积 长×宽: 1300×800mm;
  如有产品需要抄板、全套克隆、批量生产请与我公司联系。