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我公司针对离子刻蚀设备的抄板圆满完成

     我公司针对离子刻蚀设备的抄板圆满完成,此离子刻蚀设备具备以下特点:
  1. 自动工艺配方表,灵活方便的手动调节。
  2. 工艺配方可U盘导入、导出,保证数据安全。
  3. 下游流量控制,确保气体组分及比例稳定。
  4. 完善的安全控制,通过互锁及冗余控制,保证系统安全。
  5. 所有运行参数可监控,并生成报表,以供追溯分析。
  6. 整机采用无油部件,可应用于净化间。
  7. 全自动控制解决方案,可实现一键到底式操控体验。
  8. 自动控制与手动操作一体化设计,无缝衔接。
  
       主要技术指标:
  可加工尺寸 5英寸
  基片台冷却 水冷+氦气背冷
  可刻蚀材料 硅基材料及金属
  腔室尺寸 φ225mm×H350mm
  真空系统 620L/S分子泵+8L/S干泵
  极限真空 5.0×10-4Pa
  电源系统 13.56MHz、1000W射频电源,自动匹配、自动控制;13.56MHz、500W射频电源,自动匹配、自动控制
  压力控制 MKS压力控制系统、下游流量控制
  气路 6路流量控制器,全自动控制、全自动现实并记录流量参数
  控制系统 一体化工业控制器
  系统软件 ICP定制控制软件
  报警及保护 对电极缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并保护
  我公司抄板实力雄厚,如有需要请致电我公司商务中心洽谈业务。